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影响膜的均匀性的因素
膜的均匀性会受到夹具、掩膜等的影响
膜厚情况对薄膜性能的影响
控制基底区域内薄膜厚度的均匀性、控制每层膜的整体厚度
沉积的薄膜有内应力来源
薄膜和基材之间的晶格失配、薄膜和基材之间的热膨胀....
良好的薄膜需要具备什么特性以及影响的因素
通俗的定义为在正常状况下,其应用功能不会失效.
电子束蒸发
电子束加热装置及特点电子束通过5-10KV的电场后被加速,然后聚焦到被蒸发的材料表面,把能量传递给待蒸发的材料使其熔化并蒸发. 无污染:与坩埚接触的待蒸发材料保持固态.…
真空蒸镀
真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法…
CVD化学气相沉积法反应步骤
不同成份气相前置反应物由主流气体进来，以扩散机制传输基板表面。理想状况下，前置物在基板上的浓度是零，亦即在基板上立刻反应，实际上并非如此。(2)前置反应物...
化学气相蒸镀(CVD)
化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体，在一加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。优点:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如热喷覆(2)沉积速率快...
一文读懂半导体材料
多晶硅的纯度要很高,还要用氢氟酸对其进行抛光达到清洗的目的;籽晶上的缺陷会"遗传"给新生长的晶体,所以在选择籽晶时要注意避开缺陷;籽晶的晶向和所要生长的晶体相同;籽晶要经过清洗;根据待生长晶体的导电类型选择要…
TiN氮化钛镀膜特点
有以下的优点：(1)抗磨损(2)具亮丽的外观(3)具安全性，可使用于外科及食品用具...

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