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CVD化学气相沉积法反应步骤
CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为五个步骤
单一蒸发源膜厚分布的均匀性
光学薄膜厚度的均匀性是薄膜制备的一项重要指标,它影响着光学元件的光谱特性,并决定着能达到要求的实际有效镀膜面积.
真空镀膜中对蒸发源的材料要求有哪些?
通常对蒸发源应考虑蒸发源的材料和形状,一般对蒸发源材料的要求
介质膜和金属膜的区别
介质膜不导电,利用菲涅尔公式,通过一定折射率的材料,加上等倾干涉的条件,实现反射波相长,从而获得较大的反射率.
不同蒸发源的优缺点
1.结构简单、使用方便、造价低廉,因此使用普遍;2.可蒸发蒸发温度小于1500℃的铝、金、银等金属,蒸发一些硫化物、氟化物和某些氧化物.
真空蒸镀可应用产业
主要产业大多应用于装饰、光学、电性、机械及防蚀等方面,现就比较常见者分述如下:
蒸镀的加热方式
(1)电阻加热;(2)感应加热;(3)电子束加热;(4)雷射加热;(5)电弧加热.
ITO透明导电薄膜发展历程
透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxide,TCO)是一种在可见光光谱范围(380nm < λ < 780nm)透过率很高且电阻率较低的薄膜材料.
磁控溅射镀膜设备的工作原理
磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶是采用静止电磁场,而磁场是曲线型的,对数电场用于同轴圆柱形靶
薄膜内应力产生因素
磁控溅射镀膜中,薄膜由于各种原因会产生内应力,不将其控制在合理的范围内会导致薄膜脱落等负面情况,大大减少使用寿命

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