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聚焦离子束(FIB)技术
聚焦离子束( FIB) 技术的快速发展和实用化要归功于液态金属离子源的开发.
【科普】什么是N型半导体和P型半导体?它们各有什么特点?
N型半导体也被称为电子型半导体,它(们)是自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体.P型半导体也叫空穴型半导体,是以带正电的空穴导电为主的半导体,或者说是空穴浓度远大于自由电子浓度的杂质半导体.
靶材技术的发展趋势
溅射靶材向大尺寸、高纯度化发展
溅射靶材产业链
溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布.产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节.
溅射靶材:半导体芯片材料王者
靶材分类溅射靶材种类繁多,依据不同的分类标准,可以有不同的类别.溅射靶材可按形状分类、按化学成份分类以及按应用领域分类.
钛铝合金溅射靶材的主要制备技术
根据国内外有关钛铝合金靶材的生产工艺研究报道,目前钛铝合金溅射靶材的主要制备技术有:强电流加热法、热等静压烧结法、热压烧结法.
钛铝合金溅射镀膜工艺
钛铝合金是一种真空镀膜用合金溅射靶材,在该合金中通过调配钛与铝的含量可以获得不同特性的钛铝合金靶材.
反应溅射
现代表面工程的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜,反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一.
真空镀膜设备有哪些污染源
真空污染是一个值得被重视的问题,因为这些污染会影响设备性能,应注意定期或随时进行清洁工作.
真空磁控溅射镀膜设备的技术特点
真空磁控溅射镀膜特别适用于反应沉积镀膜,实际上,这种工艺可以沉积任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.

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