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蒸发和磁控溅射镀膜的性能分析
常用电较材料Al通过这两种方法制备成薄膜电较的膜厚控制、附着力、致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发.
镀膜设备中常用的离子源丨起源、原理、分类
离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置.离子源是各种类型的离子加速器.质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀及清洗装置、离子束溅射装置、离子束辅助沉积装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件.
做靶材的材料人需要了解的金属材料的物理、化学和力学性能
本文中,我们将讨论金属材料的物理,化学和力学性能.金属材料的性能很多,不同的使用要求和使用环境,具有相应的性能要求.
电子束蒸发镀膜原理
电子束蒸发是一种物理气相沉积 (PVD)技术,它在真空下利用电子束直接加热蒸发材料(通常是颗粒),并将蒸发的材料输送到基板上形成一个薄膜.电子束蒸镀可以镀出高纯度、高精度的薄膜.
钼及钼合金溅射靶材
钼及钼合金溅射靶材已广泛应用于各个行业，对其做一下介绍。
ITO溅射靶材的制作方法
ITO溅射靶材的制作方法以及他们的优缺点
八大新型功能陶瓷材料
新型功能陶瓷材料是以电、磁、光、声、热、力学、化学或生物功能等的介质材料.
靶材纯度对镀膜生产的影响
溅射镀膜对靶材质量的要求高于传统材料行业
溅射靶材的养护
靶材的清洁度对于溅射镀膜过程中形成的镀膜质量,以及产品质量合格与否有着至关重要的作用,清除那些在靶材上的残留物,可减少靶材表面结瘤,也能提高靶材利用率和生产效率,而且靶材清洁也与后期的养护密不可分.
PVD镀膜靶材
物理气相沉积的主要方法包括真空蒸发,溅射沉积,电弧等离子镀,离子镀等.PVD膜沉积速度快,附着力强,衍射性好,应用范围广.

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