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精华--磁控溅射靶材全解
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一.用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,这一过程称为溅射.被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的源(source)材料,通常称为靶材.
多弧离子反应镀膜设备可镀色彩
镀金色∶用钛靶材,真空度抽至1.5×10-2Pa,充Ar(氩气)至1×10-1Pa镀60秒 —关氩气(Ar)—开氮气至2~4×10-1Pa镀4分钟左右.(产生 TiN化合物)
各种靶材对应的PVD镀膜颜色
选择靶材种类、材质和气体(氮气、氧气、乙炔、甲烷、氩气等),确定靶材及气体种类,然后调整气体比例、用量、溅射功率、溅射时间、基材处理温度、溅射温度、溅射时间等工艺参数,制备出颜色膜层,广泛应用于装饰性镀膜行业.
半导体材料市场中的溅射靶材
靶材就是高速核能粒子轰击的目标材料,通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等).
镀膜技术中经常会出现问题汇总
真空镀膜,电镀,化学反应 ,热处理 ,物理或机械处理.
磁控溅射镀膜常见领域应用
磁控溅射方法可用于制备多种材料,如金属、半导体、绝缘子等.它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点.
靶材背靶绑定介绍
背靶绑定是指用焊料将靶材与背靶焊接起来.主要有三种的方式:压接、钎焊和导电胶.靶材绑定常用钎焊,钎料常用In、Sn、In –Sn,一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/㎝
十七种稀土元素介绍
稀土是化学元素周期表中镧系元素镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)以及钪(Sc)和钇(Y)的17种元素的总称.钪和钇常与矿床中的镧系元素共生,因而具有相似的化学性质,属于稀土元素.
材料行业 | 高纯溅射靶材
溅射靶材的种类较多,即使相同材质的溅射靶材也有不同的规格.按照不同的分类方法,能够将溅射靶材分为不同的类别
真空计的分类及原理
真空计（Vacuum Gauge）,又称规，是测量真空度或气压的仪器，一般利用不同气压下的某种物理效应的变化进行气压的测量，在科研和工业生产中广泛使用。

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