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一文了解金属粉末（上）
金属粉末是指尺寸小于1mm得金属颗粒群。包括单一金属粉末、合金粉末以及具有金属性质的某些难熔化合物粉末，是粉末冶金的主要原材料。
详细的真空镀膜机设计流程，请收藏！（二）
详细的真空镀膜机设计流程
详细的真空镀膜机设计流程，请收藏！（一）
详细的真空镀膜机设计流程，请收藏！（一）
一文弄懂薄膜铂热电阻
薄膜铂热电阻由一种新的铂热电阻生产技术生产，即用膜工艺改变原有的线绕工艺，制备薄膜铂热电阻。它是由亚微米或微米厚的铂膜及其依附的基板组成。它的测温范围是-50-600℃。目前国产薄膜铂热电阻精度可达到德国标准(DIN)中的B级，技术上与国际先进水平尚有差距。
氮化硼坩埚的应用范围和使用方法
氮化硼陶瓷坩埚真空下使用温度1800度，气氛保护下使用温度2100度。氮气或者氩气气氛使用最佳，寿命最长。氮化硼坩埚抗热震强，1500度急冷不开裂，1000度炉内保温20分钟取出来吹风急冷连续反复上百次不会开裂。
PVD沉积方式的比较（二）
在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
PVD沉积方式的比较（一）
PVD（Physical Vapor Deposition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
离子束溅射镀膜设备的优缺点
离子束溅射镀膜
PVD技术中的几种电源
电弧离子镀膜中靶材蒸发和电离的实现必须依靠电弧电源提供能量，在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，保证镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是最小稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。一台多弧离子镀膜机所配电弧电源少则几台，多则十几台，甚至几十台。
溅射薄膜的特点
镀制的膜层厚度是否可以控制在预定的数值上，称为膜厚可控性。所需要的膜层厚以多次重复性再现，称为膜厚重复性。由于真空溅射镀膜的放电电流和靶电流可以分别控制。通过控制靶电流可以控制膜厚。所以，溅射镀膜的膜厚可控性的重要性较好，能够可靠地镀制预定厚度的薄膜。并且，溅射镀膜可以在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

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