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磁控溅射镀膜技术的物理过程
离子轰击靶材表面时与靶材原子发生动量交换而在靶材内部引发一系列碰撞;一部分靶材原子从碰撞中获得反冲动能从而挣脱表面结合能的束缚而成为溅射原子
薄膜沉积—磁控溅射法
磁控溅射法具有设备简单、镀膜面积大、基面升温缓慢以及成本相对较低的特点,在科研领域得到了广泛的应用
磁控溅射工艺参数--衬底偏压
在偏压的作用下,溅射出来的离子获得动能,加速飞向衬底并对衬底进行轰击,此时,衬底表面结合不牢固的原子会被打掉,这样子会留下一些结合紧密,缺陷少的薄膜原子,提高成膜质量
磁控溅射镀膜要点
磁控溅射是一种涉及气态等离子体的沉积技术,该等离子气体被生成并限制在一个包含要沉积的材料的空间内,溅射靶材的表面被等离子体中的高能离子侵蚀,释放出的原子穿过真空环境并沉积在基板上以形成薄膜.
溅射镀膜技术的应用
目前广泛使用的硬化膜是水溶液电镀铬.电镀会使钢发生氢脆,而且电镀速度慢,造成环境污染.
磁控溅射镀膜技术的发展
溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术.
蒸发镀膜稳定性与均匀性的控制
热电阻蒸镀与电子束蒸镀是Z为常见的蒸发镀膜方式,其中热电阻蒸镀的原理是通过电流加热蒸发蒸发舟上的原料,而电子束蒸镀的原理是通过电子束加热蒸发水冷坩埚上的原料
真空镀膜技术种类
真空蒸镀法，溅射镀膜，离子镀，分子束外延，化学气相沉积
真空镀膜技术
真空镀膜技术是气相物理沉积的方法之一,也叫真空电镀.是在真空条件下,用蒸发器加热镀膜材料使之升华,蒸发粒子流直接射向基体,在基体表面沉积形成固体薄膜.
真空热处理加工技术
主要指的是真空技术与热处理技术相结合的新型热处理技术,其中,真空热处理所处的真空环境指的是低于一个大气压的气氛环境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空等,所以,真空热处理实际也属于气氛控制热处理.

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