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磁控溅射真空镀膜设备镀膜工艺主要受哪几个参数影响呢？磁控镀膜机里面的工艺参数有很多很多，每个参数对磁控镀膜系统来说都是非常重要的因素，因为一个参数未达标，都没办法完成所需要达到的要求，今天给大家介绍磁控溅射真空镀膜设备几个常见比较重要参数

一、溅射阈值 

将靶材原子溅射出来所需的入射离子最小能量值。与入射离子的种类关系不大、与靶材有关。在能离子量超过溅射阈值后，随着离子能量的增加，在150ev以前，溅射产额和离子能量的平方成正比；在150ev~1kev范围内，溅射产额和离子能量成正比；在1kev~10kev范围内，溅射产额变化不显著；能量再增加，溅射产额却显示出下降的趋势。以下是几种金属用不同入射离子轰击的溅射阈值。

二、溅射产额 

入射离子轰击靶材时，平均每个正离子能从靶材打出的原子数。影响因素主要有以下几方面：

1、溅射产额随靶材原子序数的变化表现出某种周期性，随靶材原子d壳层电子填满程度的增加，溅射产额变大（大致的变化趋势）。

2、入射离子种类对溅射产额的影响，溅射产额随入射原子序数增加而周期性增加。相应于45Kev的各种入射离子，银、铜、钽的溅射产额

3、离子入射角度对溅射产额的影响，对相同的靶材和入射离子，溅射产额随离子入射角增大而增大，当角度增大到70°~80 °时，溅射产额最大。继续增大入射角，溅射产额急剧减小，90°时溅射产额为零。

4、靶材温度对溅射产额的影响，一般来说，在可以认为溅射产额同升华能密切相关的某一温度范围内，溅射产额几乎不随温度的变化而变化。当温度超过这一范围时，溅射产额有急剧增加的倾向。